Tanggal dan TRL menurut catatan penerbit. Akhir periode dan target bukan bukti hasil riset.
Teknologi · CC BY 4.0 · Sumber data
Apa tujuan dan pendekatan risetnya?
Profil ini merangkum ruang lingkup proyek yang dipublikasikan NASA TechPort. Sumber diakses . Uraian pendekatan dan manfaat menyatakan tujuan pengembangan, kecuali sumber secara khusus melaporkan hasil.
Proyek ini mengembangkan lapisan tipis rhenium dendritik melalui chemical vapor deposition pada substrat karbon dan titanium. Permukaan beremisi tinggi ditujukan untuk meningkatkan pembuangan panas, sehingga ukuran atau massa radiator dapat dikurangi. Pengujian mengukur emisivitas serta kemampuan lapisan bertahan terhadap bombardemen ion. Fokusnya adalah pembuktian kelayakan material radiator, karena peningkatan kinerja propulsi listrik bergantung pada kemampuan seluruh sistem mengelola panas buang dengan perangkat yang tidak terlalu berat.
Konteks pengembangan
- Institusi pemimpin
- Ultramet
- Program
- Small Business Innovation Research/Small Business Tech Transfer
- Periode proyek
- 2023-08-03 → 2024-02-02
Klasifikasi NASA
- TX14.2.3 — Heat Rejection and Storage
Label penerbit dipertahankan sebagai konteks. Bidang katalog merupakan pengelompokan editorial.
Apa yang diketahui tentang statusnya?
TRL adalah tingkat kesiapan teknologi yang dilaporkan penerbit, pada skala 1–9. Nilai target akhir menunjukkan sasaran. Status “Completed” berarti proyek telah selesai menurut pencatatan NASA; status tersebut tidak membuktikan bahwa seluruh sasaran kinerja telah tercapai.
Batas informasi
Profil ini menjelaskan ruang lingkup riset dari catatan penerbit. Target pengembangan dan TRL akhir bukan bukti keberhasilan, ketersediaan produk, atau kelayakan penerapan. Tinjauan ahli dan pengujian performa independen belum dilakukan.
Dasar profil
- NASA TechPort: High-Emissivity CVD Dendritic Rhenium Coatings for NEP Radiator Panels ↗
NASA TechPort · Pembaruan sumber 01/22/26
Diakses 2026-10-13. Rujukan primer dengan atribusi. Uraian Indonesia adalah parafrasa editorial; hak dokumen dan aset upstream mengikuti pemiliknya.