Tanggal dan TRL menurut catatan penerbit. Akhir periode dan target bukan bukti hasil riset.
Teknologi · CC BY 4.0 · Sumber data
Apa tujuan dan pendekatan risetnya?
Profil ini merangkum ruang lingkup proyek yang dipublikasikan National Science Foundation (NSF). Sumber diakses . Uraian pendekatan dan manfaat menyatakan tujuan pengembangan, kecuali sumber secara khusus melaporkan hasil.
Penghalang Ta/TaN memiliki batas butir yang dapat menjadi jalur difusi ketika interkoneksi diperkecil. Penelitian menghubungkan mekanisme pertumbuhan film karbon dengan mikrostruktur, ikatan kimia, serta sifat optik dan mekanis. Laju gas, tekanan, suhu, dan daya plasma dioptimalkan untuk permukaan halus serta struktur stabil. Pelapis dinilai melalui adhesi pada tembaga maupun dielektrik, kelarutan, konduktivitas, keseragaman, dan ketebalan sebelum kelayakan penghalang ditetapkan.
Konteks pengembangan
- Institusi penerima pada catatan
- University of Louisiana at Lafayette
- Program
- AM-Advanced Manufacturing
- Periode pendanaan tercatat
- 2025-01-01 → 2027-12-31
Proyek kolaboratif beberapa institusi diwakili oleh satu catatan penghargaan. Institusi di atas adalah penerima pada catatan tersebut.
Klasifikasi NSF
- Directorate for Engineering
- Civil, Mechanical, & Manufacturing Innovation
Label penerbit dipertahankan sebagai konteks. Bidang katalog merupakan pengelompokan editorial.
Apa yang diketahui tentang statusnya?
Catatan NSF tidak melaporkan tingkat kesiapan teknologi (TRL). Status pendanaan aktif atau berakhir bukan bukti keberhasilan riset.
Batas informasi
Profil merangkum tujuan dan pendekatan dalam abstrak pendanaan NSF. Status pendanaan tidak membuktikan keberhasilan riset, kesiapan teknologi, atau ketersediaan produk. Hasil dan performa belum diverifikasi secara independen; tinjauan ahli belum dilakukan.
Dasar profil
- NSF Award: ECLIPSE: Ultrathin and Reliable Copper Diffusion Barriers for Advanced Copper Interconnects ↗
National Science Foundation (NSF) · Amendemen tercatat 08/05/2024
Diakses 2026-10-14. Metadata penghargaan dan abstrak publik NSF menjadi dasar parafrasa editorial Indonesia. Dokumen dan aset lain mengikuti hak pemiliknya.